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簡(jiǎn)要描述：我們的EVG770分步重復(fù)納米壓印光刻機(jī)是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺(tái)，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復(fù)制模板。結(jié)合金剛石車削或直接寫(xiě)入方法，分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。
產(chǎn)品型號(hào)：EVG770 NT廠商性質(zhì)：代理商產(chǎn)品資料：更新時(shí)間：2026-03-24訪 問(wèn) 量： 3942產(chǎn)品分類
Product Category詳細(xì)介紹
納米壓印機(jī)是一種科研設(shè)備，利用納米壓印技術(shù)將預(yù)制的模具圖案轉(zhuǎn)移到工件上，以制作出納米級(jí)別的微結(jié)構(gòu)。它是納米制造技術(shù)的一種，被廣泛應(yīng)用于納米電子、納米光子學(xué)、納米生物技術(shù)、微電機(jī)械系統(tǒng)等領(lǐng)域。
1. 簡(jiǎn)介
我們的EVG770分步重復(fù)納米壓印光刻機(jī)/紫外光納米壓印機(jī)是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺(tái)，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復(fù)制模板。結(jié)合金剛石車削或直接寫(xiě)入方法，分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。
2. 納米壓印設(shè)備主要應(yīng)用
主要使用連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作（例如：微鏡頭制作）。
3. 特色
EVG770的主要功能包括精確的對(duì)準(zhǔn)功能，全緬的過(guò)程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。
4. 紫外光納米壓印機(jī)參數(shù)特征
1）高效的晶圓級(jí)光學(xué)微透鏡主制造，直至SmartNIL的納米結(jié)構(gòu)®
2）簡(jiǎn)單實(shí)施不同類型的主機(jī)
3）可變抗蝕劑分配模式
4）分配，壓印和脫模過(guò)程中的實(shí)時(shí)圖像
5）用于壓印和脫模的原位力控制
6）可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償
7）可選的自動(dòng)盒帶間處理
5. EVG770技術(shù)數(shù)據(jù)
| 參數(shù)名稱 | 參數(shù)值 |
|---|---|
| 晶圓直徑（基板尺寸） | 100至300毫米 |
| 解析度 | ≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝） |
| 支持的工藝 | 軟UV-NIL納米壓印 |
| 曝光源 | 大功率LED（i線）> 100 mW /cm² |
| 對(duì)準(zhǔn) | 頂面顯微鏡，用于實(shí)時(shí)重疊校準(zhǔn)≤±500 nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300 nm |
| 印刷模具到模具的放置精度 | ≤1微米 |
| 有效印記區(qū)域 | 長(zhǎng)達(dá)50 x 50毫米 |
| 自動(dòng)分離 | 支持 |
| 預(yù)處理功能 | 涂層：液滴分配（可選） |
6. 納米壓印工藝結(jié)果
圖1 微鏡頭
圖2 納米壓印結(jié)果（100納米分辨率）
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