EVG501 晶圓鍵合機(jī) 微流控加工

用于學(xué)術(shù)和工業(yè)研究的多功能手動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng)。

適用于：微流體芯片，半導(dǎo)體器件處理，MEMS制造，TSV制作，晶圓先進(jìn)封裝等。

一、簡(jiǎn)介

EVG501 晶圓鍵合機(jī) 微流控加工是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng)，可處理從單芯片到150 mm（200 mm鍵合室的情況下為200 mm）的基片。該工具支持所有常見(jiàn)的晶圓鍵合工藝，如陽(yáng)極，玻璃料，焊料，共晶，瞬態(tài)液相和直接鍵合。易于操作的鍵合室和工具設(shè)計(jì)，讓用戶能快速，輕松地重新裝配不同的晶圓尺寸和工藝，轉(zhuǎn)換時(shí)間小于5分鐘。這種多功能性非常適合大學(xué)，研發(fā)機(jī)構(gòu)或小批量生產(chǎn)。鍵合室的基本設(shè)計(jì)在EVG的HVM（量產(chǎn)）工具上是相同的，例如GEMINI，鍵合程序很容易轉(zhuǎn)移，這樣可以輕松擴(kuò)大生產(chǎn)量。

二、特征

帶有150 mm或200 mm加熱器的鍵合室

壓力和溫度均勻性

與EVG的機(jī)械和光學(xué)對(duì)準(zhǔn)器兼容

靈活的設(shè)計(jì)和研究配置

從單芯片到晶圓

各種工藝（共晶，焊料，TLP，直接鍵合）

可選渦輪泵（<1E-5 mbar）

可升級(jí)陽(yáng)極鍵合

開放式腔室設(shè)計(jì)，便于轉(zhuǎn)換和維護(hù)

EVG501 晶圓鍵合機(jī)兼容試生產(chǎn)需求：

同類產(chǎn)品中的低擁有成本

開放式腔室設(shè)計(jì)，便于轉(zhuǎn)換和維護(hù)

小占地面積的200 mm鍵合系統(tǒng)：0.8㎡

程序與EVG HVM鍵合系統(tǒng)*兼容

三、參數(shù)

 EVG501是一款專為學(xué)術(shù)研究、研發(fā)機(jī)構(gòu)及小批量生產(chǎn)設(shè)計(jì)的高度靈活的手動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng)，兼容單芯片至150 mm（可選200 mm鍵合室）基片，支持陽(yáng)極鍵合、玻璃料、共晶、焊料、瞬態(tài)液相（TLP）及直接鍵合等多種主流鍵合工藝。開放式腔室設(shè)計(jì)使得晶圓尺寸與工藝類型切換可在5分鐘內(nèi)完成，擁有成本低，占地面積僅0.8㎡，非常適合多項(xiàng)目交替開展的實(shí)驗(yàn)室環(huán)境。

在實(shí)際選型時(shí)，用戶可根據(jù)樣品尺寸選擇150 mm或200 mm加熱器，并根據(jù)真空需求選配標(biāo)準(zhǔn)0.1 mbar或高真空渦輪泵（<1E-5 mbar）配置；若涉及玻璃-硅陽(yáng)極鍵合，可升級(jí)陽(yáng)極鍵合模塊。

設(shè)備與EVG GEMINI等量產(chǎn)型鍵合機(jī)的工藝程序兼容，便于后續(xù)工藝向大批量制造轉(zhuǎn)移。在配套支持方面，我們可協(xié)助進(jìn)行鍵合工藝參數(shù)開發(fā)（如溫度、壓力、氣氛設(shè)定）、提供對(duì)準(zhǔn)器（機(jī)械或光學(xué)）的選配建議，并支持從單芯片工藝驗(yàn)證到小批量試產(chǎn)的全流程方案設(shè)計(jì)。